Gigaphoton推出氖气回收系统hTGM，宣称回收率50%
热点事件持续更新
Gigaphoton推出氖气回收系统hTGM，宣称回收率50%
2 篇报道2 个报道来源4 小时前更新
先了解这件事
AI 综述
日本半导体光刻设备制造商Gigaphoton推出了用于其氟化氩准分子激光器的氖气回收系统hTGM，并宣称其回收率可达50%。该公司称，该系统每年可减少高达470千升的氖气消耗，以降低材料成本并减少对全球供应链的依赖。 报道指出，此前Cymer公司在2015年已实现相同效率，而日本另一家公司Kanken Techno最近展示了回收率超过90%的系统。
AI 根据报道生成 · 3 小时前更新
最新进展10月6日 22:18
日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%报道时间线
沿着报道，了解事件的不同侧面。
10月6日
- IT之家日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%
Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，用于氟化氩准分子激光器，宣称回收率达 50%。该系统未来可通过调整配置进一步提升回收效率，有助于缓解俄乌冲突后全球芯片供应链的氖气短缺问题。目前全球约 70% 的氖气用于半导体制造，尤其是深紫外光刻工艺。
- Tom's HardwareGigaphoton 推出新型氖气回收系统 hTGM，宣称回收率达 50%
Gigaphoton 推出用于 ArF 准分子激光器的氖气回收系统 hTGM，宣称回收率达 50%。该系统可减少每年高达 470 千升的氖气消耗，降低材料成本并减少对全球供应链的依赖。此前 Cymer 在 2015 年已实现相同效率，而日本另一家公司 Kanken Techno 最近展示了超过 90% 回收率的系统，预计将推动行业进一步提升回收能力。
本事件热度走势
还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。