日本半导体光刻设备制造商 Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，号称回收率达 50%

Gigaphoton 推出 hTGM 新型氖气回收系统，用于氟化氩准分子激光器，宣称回收率达 50%。该系统未来可通过调整配置进一步提升回收效率，有助于缓解俄乌冲突后全球芯片供应链的氖气短缺问题。目前全球约 70% 的氖气用于半导体制造，尤其是深紫外光刻工艺。