中微公司首台气相高选择性刻蚀设备付运国内客户
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中微公司首台气相高选择性刻蚀设备付运国内客户
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AI 综述
中微公司将其面向GAA晶体管与3D DRAM工艺开发的Primo Domingo气相高选择性刻蚀设备的全球首台机，付运给了国内重要客户。 该设备在实验室验证中实现了大于700:1的SiGe/Si选择比，但尚未完成客户端量产验证。中微公司称该设备填补了国内下一代3D半导体器件关键刻蚀工艺的自主化空白。
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最新进展10月22日 16:47
中微公司 Primo Domingo 全球首台付运，面向 GAA 与 3D DRAM 高选择性刻蚀报道时间线
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10月22日
- IT之家中微公司 Primo Domingo 全球首台付运，面向 GAA 与 3D DRAM 高选择性刻蚀
中微公司 Primo Domingo 气相高选择性刻蚀设备全球首台机已付运国内重要客户，该设备面向 GAA 晶体管与 3D DRAM 等三维器件工艺开发。其在实验室验证中实现了大于 700:1 的 SiGe/Si 选择比，但尚未完成客户端量产验证。中微公司称该设备填补了国内下一代 3D 半导体器件关键刻蚀工艺的自主化空白。
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