报告称中国2012至2026年初囤积343台浸没式DUV光刻机

据美国智库技术与治国中心（CTS）报告称，中国芯片制造商在2012年至2026年初期间，累计囤积了约343台浸没式DUV光刻设备，其中许多可用于7纳米级芯片制造。 报告称，这使得中国晶圆厂在无法获得ASML更先进的EUV系统的情况下，仍具备生产复杂处理器的潜力。2024年和2025年，中国分别购买了约90台和89台NXT:1980i光刻机，占ASML同期浸没式DUV设备全球销量的70%和68%。

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