中国囤积了343台浸没式DUV光刻设备用于先进芯片制造

中国芯片制造商从2012年至2026年初累计购入约343台浸没式DUV光刻设备，其中部分可用于7nm级制程技术。据CTS报告，这些设备使中国晶圆厂在无法获得ASML更先进的EUV系统情况下仍具备生产复杂处理器的潜力。2024年和2025年，中国分别购买了约90台和89台NXT:1980i光刻机，占ASML同期浸没式DUV设备全球销量的70%和68%。