上海微电子展示新一代前道光刻机模型
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上海微电子展示新一代前道光刻机模型
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AI 综述
上海微电子装备公司在进博会上展示了一款新一代前道干式光刻机通用技术平台的模型。 该公司称，该模型适配I-line、KrF两类主流技术路线，核心系统实现全链条自主可控，设备有效运行率超92%。其成像性能已与国际同类领先产品水平相当，并支持国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行。
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最新进展11月8日 16:36
我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相报道时间线
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11月8日
- IT之家我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相
上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）在进博会展示新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，体现我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。该模型采用透明剖视设计，适配 I-line、KrF 两类主流技术路线，核心系统实现全链条自主可控，设备有效运行率超 92%。国产前道光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，支持国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行。
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