我国前道光刻装备自主化阶段性成果，上海微电子新一代光刻机模型亮相

上海微电子装备（集团）股份有限公司（SMEE）在进博会展示新一代前道干式光刻机通用技术平台模型，体现我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。该模型采用透明剖视设计，适配 I-line、KrF 两类主流技术路线，核心系统实现全链条自主可控，设备有效运行率超 92%。国产前道光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，支持国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行。