Tom's Hardware· Chris Stokel-Walker ·· 3 小时前AI 评分53
中国可在无EUV光刻机条件下制造先进芯片，但成本与效率持续攀升
China can make advanced chips without EUV, but the bill keeps growing
AI 导读
中国芯片制造商在无法获得ASML EUV光刻机的情况下，通过DUV光刻机配合多重曝光技术制造先进芯片，但导致芯片尺寸增大、良率降低、制造时间延长和成本上升。专家Chris Mack指出，多重曝光在四层以上时成本已高于EUV，且缺陷风险增加。
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