报告称中国已储备343台浸没式DUV光刻机 或具备持续推进7纳米芯片生产能力

美国华盛顿智库“技术与治国方略中心”（CTS）报告指出，中国已储备约343台浸没式深紫外（DUV）光刻机，其中270台为ASML的Twinscan NXT:1980i型号，可支持7纳米级逻辑芯片制造。