布法罗大学预测氮化硼原子缺陷光学指纹用于材料筛选

美国布法罗大学团队通过计算预测，六方氮化硼中的原子缺陷在激光照射下会产生独特的光学指纹，有望用于分辨缺陷种类以筛选量子器件材料。该团队称，碳原子缺陷复合体可显著增强二次谐波信号，且信号随偏振方向变化。 实验结果定性支持了计算预测，但该研究目前主要提供理论依据，尚未实现对单一原子缺陷的逐个识别装置。

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还没有足够的连续观测数据，暂不绘制趋势。